Catálogo

Atomic Absorption Spectrophotometer 500 (AAS)

  • Horno de grafito con muestreador automático
  • Control de temperatura con sensor óptico
  • Cámara de visión integrada para un fácil manejo del software
  • Tipos de cubetas: electro grafito, cubiertas pirolíticamente y cubetas de larga duración.
  • Volumen de la muestra: 1 a 70 microlitros,
  • Control: Seleccionable -control de tensión o temperatura constante, mediante sensor óptico y fibra óptica.
  • Sistema de gas: Caudal interno variable, caudal externo fijo.
  • Gases alternativos adicionales.
  • Gas inerte: argón o nitrógeno
  • Caudal: máximo 3,5 l/min.
  • Tiempo de reutilización: 20 segundos.
  • Tiempo de lavado: máximo 5 segundos para garantizar la eliminación completa de la contaminación.
Angstrom Product

Atomic Absorption Spectrophotometer
500 (AAS)

Sistema óptico de doble haz, con monocromador tipo Echelle, que permite trabajar en un rango entre 180nm y 900nm, con un ancho de banda entre 0,2 y 1nm. Con compartimentos independientes para llama y horno, que no requieren ningún tipo de intervención por parte del usuario para su funcionamiento.

Sistema de detección de fotomultiplicadores (PMT) en un rango de absorbancia de -0,150 UA a 3.000 UA con corrección de fondo mediante lámpara de deuterio.

Características
  • Completamente controlado por PC, puede seleccionar de manera flexible el atomizador de horno de llama y grafito
    (Opcional).
  • El diseño de plataforma óptica flotante integrada mejora la resistencia a los golpes del sistema óptico estable.
  • Ocho soportes de luz se pueden cambiar automáticamente y precalentar las ocho luces mientras tanto, así como optimizar las condiciones de trabajo de la lámpara de cátodo hueco.
  • Ajuste de posición: el quemador de llama se puede colocar automáticamente en la mejor posición.
  • Escaneo de longitud de onda y búsqueda de picos totalmente automatizados

CATÁLOGO

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    Model

    AAS500

    Wavelength Range

    190 – 900nm

    Wavelength Accuracy

    ±0.15nm

    Wavelength Receptivity

    ≤0.04nm

    Base Line Stability

    ≤0.002A/30min (Cu)

    Characteristic Concentration

    0.02μg/ml/1% (Cu)

    Detection Limit

    0.004μg/ml (Cu)

    Measurement Repeatability

    ≤0.5%

    Grating

    1800 lines/mm